Quid factors et afficit in coating perficientur de vacuo coating machina?

Quid factors et afficit in coating perficientur Vacuum coating machina ?

Si vacuum coating apparatus velit tunica bonam amet, oportet ut plures res in a normalis statu, ut vacuum coating, basi scopum distantia, evaporatio et alias. Est enim declinatio in quadam factor. Is mos afficit ad perficientur de coating layer de vacuo coating apparatus. Et haec est vacuum Editor explicare in detail quid factores erit afficit coating perficientur de vacuo coating apparatus. Spero autem potest auxilium vobis:

I. Evaporatio rate

In magnitudine ad evaporation rate habet magna potentia in deposita amet. Cum coating structuram formatae a humilitate depositionem rate solutam et securus deposit magna particulas, ut ad curare de compagitia coating structuram, quod est tutum eligere altiorem evaporatio rate. Cum pressura de RELICTUM Gas in vacuo thalamum est constans, in bombardum rate of eminet subiectum est assidue valorem. Ideo post lectio altiorem depositionem rate, in RELICTUM Gas continebat in deposita amet reduci, ita redigo in eget reactionem inter RELICTUM Gas moleculis et particulas ex evaporatione film materia. Ergo pudicitia deposita amet potest melius. Notandum quod si depositionem rate est excelsum, ut crescat internum accentus de film, unde in incremento in defectibus in amet accumsan, et etiam elit de film iacuit in casibus. In maxime, in processus of reactive evaporatio, in inferioribus depositionem rate potest electus ut enable in reactionem Gas et evaporationem film materiales ad reagunt satis. Scilicet, diversis evaporation rates debet esse pro diversis materia evaporatio. Ut a practica exemplum de quam a humilis depositionem rate potest afficit perficientur de film est depositionem de reflective film. Exempli gratia, cum film crassitiem est 600x10-8cm et evaporation tempus est 3s, ad reflectivity est XCIII%. Autem, si ad evaporatio rate est retardatur sub eadem film crassitudine, capit X min ad perficere film depositione. In hoc tempore, in crassitudine film est idem. Tamen, ad reflectivity cecidit ad LXVIII%.

II. Substratum temperatus

Substratum temperatus etiam habet magna effectus in evaporative coating. Residua Gas moleculis adsorbed in subiecto superficiei altitudinis subiecta temperaturis facile remota. Praesertim exclusio aqua vapor moleculis est magis. Praeterea, non solum facile promovere transitus a corporalis adsorption ad eget adsorption ad altiorem temperatus, ita crescente binding vi inter particulas. Sed et differentia inter recrymstallization temperatus vapor moleculis et subiecti temperatus potest reduci, ita reducendo vel eliminating internum accentus in film-subiecto interface. Praeterea, cum subiectum temperatus est ad crystallinum rei publicae de film, amorpho vel microcrystalline coatings tendunt ad facile sub humilis aut nulla calefacit conditiones in subiecto. Vice versa, cum temperatus est altior, facile est generare crystallina coating. Augenda substratum temperatus est etiam utile ad emendationem de mechanica proprietatibus de coating. Scilicet subiectum temperatus ne nimis excelsum ne rursus evaporationem evaporationem coating.

III. Influence of RELICTUM Gas pressura in vacuum camera in film perficientur

Et pressura de RELICTUM Gas in vacuum camera habet magna potentia in membrana perficientur. Si pressura est excelsum, RELICTUM Gas moleculis non solum facile collident cum evaporatione particulas, ut in motu industria populi dirigentes in subiecto reducitur, quod pertinet adhaesionem in subiecto reducitur, quae adhaesionem ad movendum reducitur, quod adhaesionem ad movendum reducitur, quod adhaesionem ad movendum reducitur, quod adhaesionem in subiecto reducitur, quod pertinet adhaesionem ad subiectum reducitur, quod adhaesionem in subiecto reducitur, quod afficit adhaesionem in subiecto reducitur, quod adhaesionem de film. Sed nimia RELICTUM Gas pressura et gravissime afficiunt puritatem membranae et reducere perficientur de coating.

IV. Effectum evaporatio temperatus in evaporation coating

Effectus ex evaporatio temperatus in film perficientur ostensum est per evaporation rate ut munus temperatus. Cum vaporation temperatus est princeps, calor vaporization et diminutio. Si film materia est evaporationem super evaporatio temperatus, etiam levi mutatio in temperatus potest facere celeri mutatio in evaporatio rate de film materia. Ideo est valde maximus ut pressius potestate evaporatio temperatus in depositione de film vitare magnam temperatus gradiente cum evaporis fontem caletur. Nam film materia quae est facile ad sublimi, in film materiam se electus ut calefacientis, et mensurat, ut evaporatio sunt quoque valde magna. .

Et super quattuor facies sunt communia factores afficiens perficientur de coating layer de vacuo coating apparatus, et sunt etiam conventional influendo factores. In coating processus in vacuo coating apparatus, necesse est ut hi factores sunt in normalis state.