Quid est genera medium frequency Magnetron spundly in vacuo coating machina?

Magnetron spundreding vacuo coater includit multis genera. Quilibet habet diversas operationem principiis et application obiecti. Sed est unum in communi: et commercium inter magneticam et electrons electrons spiralis circa scopum superficiem, ita augendae probabilitatem electrons hitting Argon Gas ad producendum ions. Generatur ions collidetur cum scopum superficiem sub actione electrica agro ad fusile in scopum materia. In recentes decenniis progressionem, quisque paulatim adoptati permanet magnes, raro usus est in plantis.
In scopum fontem dividitur in libratum et inaequaliter genera. In libratum target fontem habet uniformis coating, et inaequaliter target fontem habet fortis vinculum vis inter coating film et subiectum. Libratum scopum fontes sunt plerumque propter semiconductor optical films, et inaequaliter fontes plerumque propter circumdatio exornantur films.
Cujuscumque statera vel unbalance, si magnes sit stabilis, magnetica propria propria determinare generalis scopum utendo rate est minus quam XXX%. Ut crescat ad usum rate de scopum materia, a rotating magnetica agro potest esse. Tamen, rotating magnetica agro requirit a rotating mechanism, et spundering rate debet reduci. Rotating magnetica agros plerumque propter magnum vel pretiosa peltas. Ut semiconductor amet sputtering. Nam parva apparatu et generalis industriae apparatu, a stabilis target fons cum magnetica agro est saepe usus.

Facile est foris metalla et Alloys cum Magnetron target fontem, quod est securus ignis et fusile. Hoc est quia scopum (cathode), Plasma, et vacuum camera ex sponda partes potest formare a loop. Si autem insulator tapeic sputyrum, circuitus victus. Itaque populus utor summus frequency potentia commeatibus et addere fortis capacitors ad loop. Et hoc modo, in scopum materia fit in capacitor in insulating circuitu. Tamen altum frequency Magnetron pulterturus potentia copia est pretiosa, et spundering rate est valde parvum, et grounding technology valde complicated, ita difficile ad capere magnis. Ut solve hoc problema, Magnettron reactive spunding erat invented. Hoc est, metallum scopum adhibetur, et argoni et reactivum vapores ut nitrogen vel oxygeni sunt addidit. Cum autem metallum target materia hits ex parte debitum ad industria conversionem, quod cum reactionem Gas ad formare nitride aut cadmiae.
Magnettron reactive spundering insulators videtur facile, sed ipsa operatio est difficile. Pelagus forsit est quod reactionem non solum occurs super superficiem ex parte, sed etiam in anode, superficies vacuum cubiculum, et superficies in target fontem. Hoc faciam ignis exstinguendo, arrogens de scopum fons et superficies workpiece, etc. et geminae target source technology invented per Leybold in Germania solvit haec quaestio bene. Quod principium est quod par scopum fontes sunt invicem anode et cathodes ad eliminate oxidatio vel nitridation in anode superficiem.
Refrigerant necesse est omnibus fontibus (Magnetron, multi, arcu, ions), quia magna pars industria convertitur in æstus. Si non est refrigerationem vel satis refrigerationem, hoc calefacere et faciet in scopum source temperatus magis quam 1,000 gradus et conflandum totum scopum fontem.
Magnetron machinam saepe valde pretiosa, sed est facile ad expendas pecuniam in alia apparatu ut vacuum sentinam, MFC et film crassitudine mensurae absque ignorando in scopum fontem. Etiam optimum Magnetron spundreding apparatu sine bono target fontem est sicut drawing draco sine consummatione in eye.