Magnetron spundly vacuum coating machina

Magnetron spundly vacuum coating machina

Magnetron spundly Vacuum coating ratio utitur summus industria ions ad deposit tenui iacuit de materia onto subiectum. Processus est velox et insumptuosus, et producit summus puritas coating. High-navitas ions sunt dimisit ex fonte materiam et collidant cum inerti Gas, ut Argon. Haec ions producendum est plasma et atomi fontem materiales sunt eiectus.

Magnetron vacuo-coating apparatus est communiter in ornamento vestibulum. Suam gyratorius ac stabilem consilia facile adaequatum occurrit varietate coating elit. Hoc apparatus est idoneam ad coating ullum metallum vel non-metallic subiectum. Potest etiam esse solebat tunica plastic, Ceramic et crystal speculo. Et summus finem features includit bonum uniformitatem et ieiunium depositione rates.

Magnetron vacuo coating systema est potens et versatile instrumentum ad summus volumine productio. Secundum ad necessitates et applicationem, hoc ars potest creare tenuis films cum amplis desideravit proprietatibus. Diversity Systems, materiae et vapores potest ad optimize processus. Ante processus incipit, subiectum est mounted in possessor. Et possessor est transit per onus cincinno cubiculum ne ex movendo.

Hoc vacuum coating ratio est humilis-sumptus modum quod producit summus qualitas coatings cum excelsum percent transeat rate. Est idealis pro aviation et summus finem electronics vestibulum. Potest etiam adhiberi ad Alloy plating et compositum metallum films. Hoc est oeconomica et efficax ad tunicam tot genera materiae.

Magnetron spundreding vacuum coating ratio utitur a spundering fontem, qui tollit utilitatem electronicum alligatum. Magnets captionem electrons in superficie scopum, unde in altiorem plasma densitas et altius depositione rates. Secus conventional spundering modi, hoc ars est tutum et non facit damnum ad coating object.

Et sputlying Gas in processus est momenti consideratione. Et genus Gas utor pendeat in atomicus pondus subiecti. Exempli gratia, levius materiae prodesse ex usu Neo aut Xenon. Si thalamum continet oxygeni, processus erit reactivum.

Et sputlying processus involves exponunt in scopum materia ad reactivum vapores. Haec gasorum agere cum scopum materia et creare molecular compositis. In materia est ergo deposita ut tenuis film coating. Exempli gratia, cum Silicon target est reactively sputed cum oxygeni et nitrogen, producit Silicon cadmiae vel Silicon Nitride. Hoc modus est saepe solebat tunica multiple materiae eodem tempore.

Magnetron spundly coating machina

Multi arcus Ion & spundly coatings potest deposita in lateque colorum. Et sonuit de coloribus potest esse adhuc auctus per introducendis reactivum vapores in camera per depositionem processus. Et late usus reactive vapores ad ornamentum coatings sunt NITROGENIUM, oxygeni, argon aut acetylene. Et exornantur coatings producuntur in quadam color range, fretus in metallum, ut-Gas Ratio in coating et structuram de coating. Et horum factores potest mutantur mutantur depositionem parametri.

Prior depositionem, partes purgari et superficies est liberum pulvis vel eget impudicitiis. Cum autem coating processus habet coepi, omnes pertinet processus parametri continue monitored et imperium per automatic computatrum imperium ratio.

• Substratum material: speculum, metallum (Carbon ferro, immaculatam ferro, aes), Ceramics, plastic, jewelry.

• structura type: vertical structuram, # CCCIV immaculatam ferro.

• coating film: multi-muneris metallum film, compositum amet, transparent PROMMIX film, reflectance-augendae amet, electro tutum film, exornantur amet.

• Film color: multi colore, gun nigrum, Titanium aureum color, Rose aureum color, immaculatam ferro color, purpura color, tenebris nigrum, tenebris hyacintho et alia colorum.

• Film Type: Stagni, CRN, ZRN, TICN, TICRN, tinc, tialn et DLC.

• Consumables in productio: Titanium, Chromium, Zirconium, ferrum, mixturae scopum; planum scopum, cylindricus scopum geminae scopum oppositum target.