Applicatio magnetonis putris

Applicationem of * magnetron putris

Magnetron putris methodus efficacissima est ad depositionem temperaturae humilis in PVD technicae artis. Per magnetron putris, electrons ab obscuro agro vel anode speciali adnexo hauriuntur, et temperatura subiectae consecutae humilior quam putris traditionalis. Aliae materiae sensitivae temperaturae substratae deponuntur. Anno 1998, Teel Coating Ltd. technicam technologiam deponendi qualitatem TiN et TiCN coatings magnetron putris ad low temperiem deponendam proposuit, et temperatura subiecta ad minus quam 70 °C demitti potuit, sic amplificationem applica- tionis possibilem similium tunicarum. Annis Loughborough Universitas in Britannia feliciter substrata temperies in magnetron saliente ab 350 ad 500 °C ad 150 °C fere ad locus temperatus reduxit, et feliciter TiN et CrN coatingit ad superficies et aeris superficies et aeris dente artificiali formas applicata. Capitis contactu glutino auget suum servitium per 5 ad 10 tempora. Perspici potest quod inquisitio modi et processuum depositionis temperatae valde significantia et promittens.