Commune vacuo terminology11- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Commune vacuo terminology11

1.Coating angle, angulus inter directionem particulas incident in subiecto et normalis de patella superficiem.
2.Vacuum sputtering, in vacuo, inerti Gas ions bombard atomis (moleculae) vel clusters ex scopum superficiem.
3.ion trabs sputtering, in scopum est spucted per an Ion trabem adeptus a specialem ion fontem.
4.glow missionem Purgato: fundatur in principle deficere missionem, superficies subiecti et film est purgari per Gas emissoque emittebat. Sinis exornantur vacuum coating apparatus amet
5.pvd physica vapor depositione: in vacuo, et coating materia est vaporized a corporalis modi ut evaporatio vel spundering, et deposita in subiecto.
6.cvd eget vapor depositione: A modum depositing novi film materiae in subiecto per vapor chemical reactiones reagens vapores cum quadam eget ratione sub specifica activation conditionibus (plerumque ad quadam summus temperatus) .