Communis scientia Vacuum coating Magnetron spundly- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Communis scientia Vacuum coating Magnetron spundly

DC Magnetron spundreding , RF Magnettron spundly, pulsed Magnetron spundly et medium Fre2quency Magnetron pulter

Reactive spundering est ad introducendam quandam proportionem reactivum Gas in iners Gas atmosphaera in sputter system. Plerumque, pelagus reactive vapores sunt oxygeni et nitrogen.

In DC spundering modum adhibetur in sputtering et reactivum sputtering coating ubi ad sputed materiam est a PROLIXUS materia, et processus apparatu est simplex et habet altum spundering rate.

In unum cathode target system, medium frequency AC Magnettron spundering habet eadem crimen release et arcus praeventionis effectus sicut pulsus magnetron spundly. Et medium frequency ac spundreding technology est etiam applicantur ad geminae scopum (Twin2mag) spundering ratio. In medium frequency AC Didymus target spundering est ad coniungere duo output fines de medium frequency AC virtus copia ad respective cathodiis claudi magneticam agrum inaequaliter sputhting duplici scopum. Ergo alterna voltages contrarias phases sunt respective adeptus in duplici peltas, et par Magnetron putrunding peltas alternatim facti sunt catenas et Anodes.

Didymus target spundly technology magna amplio stabilitatem magnetron spundly operationem, quae potest vitare cumulus criminibus in veneno target superficiem, causando quaestionem de arcus ignitionem in scopum superficiem et defectum de arcus ignitionem in scopum superficiem et defectum de arcus ignitionem in scopum superficiem et defectum de arcus ignitionem in scopum superficiem et evanescit de arcus ignitionem in scopum superficiem et evanescit de arcus ignitionem super superficiem et evanescit de arcu ignitionem super superficiem et evanescit de arcus ignitionem super superficiem superficiem et evanescit in anode. Poneret fundamenta pro massa productio.

Magnetron spundly coating machina

Multi arcus Ion & spundly coatings potest deposita in lateque colorum. Et sonuit de coloribus potest esse adhuc auctus per introducendis reactivum vapores in camera per depositionem processus. Et late usus reactive vapores ad ornamentum coatings sunt NITROGENIUM, oxygeni, argon aut acetylene. Et exornantur coatings producuntur in quadam color range, fretus in metallum, ut-Gas Ratio in coating et structuram de coating. Et horum factores potest mutantur mutantur depositionem parametri.

Prior depositionem, partes purgari et superficies est liberum pulvis vel eget impudicitiis. Cum autem coating processus habet coepi, omnes pertinet processus parametri continue monitored et imperium per automatic computatrum imperium system.