Commune Vacuum Terminology12

1.magnetron putris: Ope campi orthogonalis electromagnetici in superficie scopo formato, electronici secundarii tenentur ad specifica area superficiei scopi ad augendam efficientiam ionizationem, densitatem et energiam ion augendam, ita assequendum ratem putris. at humilis intentione et vena alta.
2.PCVD plasma chemiae vaporum depositio-A Methodus fabricandi cinematographicam subiectam temperaturis humilis movendis vaporum chemicorum reactiones per plasma emissione generatorum.
3.HCD cathode concava emissio depositionis. Cathode concava magnum numerum radiorum electronicorum emittit ad evaporationem et ionize in materia in caculato. Sub intentione negativa in subiecto, ion magnam vim habet et in superficie subiecti deposita est. Sina Multi-arcus ion apparatus efficiens Supplier
4. Arcus emissio depositionis： Cum materia efficiens ut scopum poli et felis fabrica, arcus emissio in superficie scopo producta est. Sub arcu agente, materia efficiens nullam evaporationem balnei producit et deposita in subiecto.
5.Target：A superficies cum particulis emittebat.
6.Shutter： Fallax fixa vel mobilis esse potest, quae litura temporis et/vel spatii restringere et ad certam cinematographici crassitiem consequendam adhibetur.